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    四氟化碳

    純度:99.999%

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    基本信息:

     四氟化碳 純度:99.999%

     中文名稱:四氟化碳

     中文別名:四氟甲烷

     CAS號:75-73-0

     EINECS:200-896-5

     分子式:CF4

     分子量:88

     物化性質:- 熔點:-184℃

     相對密度:1.603

     溶解性:不溶于水 

    用途:用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體及制冷劑

    物理性質:


    化學性質:

     

    相對分子量88.00。在常溫下,四氟化碳是無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體,揮發性較高,是最穩定的有機化合物之一,不易溶于水。

     

    在900℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產生有毒氟化物。

    四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。

     

    對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-H2反應離子刻蝕時,通過調節兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

     

    在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。

     

    由于化學穩定性極強,CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。

     

    四氟化碳的溶氧性很好,因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功,在275米到366米的深度內,小白鼠仍可安全脫險。、

     

    四氟化碳有時會用作低溫冷卻劑。它可用于電路板的制造,以及制造絕緣物質和半導體。它是用作氣體蝕刻劑及等離子體蝕刻版。

    四氟化碳成品應存放在陰涼,干燥,通風的庫房內,嚴禁曝曬,遠離熱源。

    吸入四氟化碳的后果與濃度有關,包括頭痛、惡心、頭昏眼花及心血管系統的破壞(主要是心臟)。長時間接觸會導致嚴重的心臟破壞。

    四氟化碳的密度比較高,可以填滿地面空間范圍,在不通風的地方會導致窒息。





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